高光譜成像已經成為(wèi)分(fēn)析藝術作(zuò)品中(zhōng)越來越常用(yòng)的工(gōng)具(jù)。然而，所獲取數據的質(zhì)量以及對該數據的處理(lǐ)，以産(chǎn)生準确且可(kě)再現的光譜圖像立方體(tǐ)，可(kě)能(néng)使許多(duō)文(wén)化遺産(chǎn)保護者面臨挑戰。為(wèi)了從高光譜成像中(zhōng)獲得有(yǒu)用(yòng)且相關的結果，必須對光譜和空間上的數據進行校正。當用(yòng)于顔料映射，隐藏特征的檢測，變化檢測或用(yòng)于定量光譜記錄時，過于嘈雜或不準确的數據将産(chǎn)生次優的結果。因此，為(wèi)幫助解決這一問題，我們将檢查藝術品所需的特定采集和校準工(gōng)作(zuò)流程。這些工(gōng)作(zuò)流程包括在采集過程中(zhōng)必須解決的關鍵參數，以及為(wèi)全面校準高光譜數據所需的後處理(lǐ)各個階段的關鍵步驟和因素。此外，我們将詳細研究影響數據質(zhì)量的關鍵因素，并提出可(kě)以對整體(tǐ)高光譜圖像質(zhì)量産(chǎn)生重大影響的實用(yòng)解決方案。  

為(wèi)了能(néng)夠獲得定量光譜數據，必須使用(yòng)已知參考将獲取的光譜歸一化為(wèi)絕對反射系數。為(wèi)此，必須在用(yòng)于藝術品本身的采集的相同操作(zuò)條件和采集參數下，對已知的反射率标準闆或一組反射率标準闆進行采集。這些條件包括照明水平，積分(fēn)時間，掃描速度，采集幾何形狀，相機增益設置等。

理(lǐ)想的參考目标闆是均勻且漫反射的朗伯平面，它們在寬光譜範圍内具(jù)有(yǒu)恒定的反射率。采用(yòng)的通常是耐用(yòng)且化學(xué)惰性的PTFE（聚四氟乙烯）靶，其中(zhōng)業界使用(yòng)廣泛的是Labsphere Inc.制造的Spectralon®。通常使用(yòng)單一反射率标準闆，實際上，大多(duō)數RRT參與者采集單一的99%參考标準闆圖像。

但是，通常通過獲取一套不同反射率漫反射目标闆來提高輻射度校準的質(zhì)量。就漫反射目标闆舉例說明。同樣，漫反射目标闆所獲取的參數必須與掃描繪畫時的一緻，不論是順序的還是單獨的。